氮鋁化鈦(AITiN)涂層真空PVD沉積鍍膜機介紹

PVD離子鍍膜機是一種用于材料科學、機械工程領域的科學儀器，于2014年4月29日啟用。該設備具備以下技術(shù)指標和主要功能：

技術(shù)指標：

最高沉積溫度可達500℃。

配備電弧靶4個、離子源1個、磁控靶2個以及HIPPMIS 1個。

主要功能：

PVD涂層鍍膜制備，特別適用于氮鋁化鈦(AITiN)涂層的真空PVD沉積鍍膜。

PVD離子鍍膜機在材料科學和機械工程領域的應用中扮演著重要角色，其技術(shù)指標和功能使其成為制備高質(zhì)量氮鋁化鈦(AITiN)涂層等PVD涂層的理想選擇。通過該設備，可以實現(xiàn)氮鋁化鈦涂層的真空PVD沉積，從而應用于各種需要耐磨、耐腐蝕等高性能涂層的產(chǎn)品上