真空磁控濺射鍍膜機是一種高效、環(huán)保的鍍膜設(shè)備，主要特點是體積小、結(jié)構(gòu)簡單緊湊且易于操作，對實驗室供電要求低。這種設(shè)備主要部件采用進口或國內(nèi)優(yōu)質(zhì)配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性。自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。小型真空磁控濺射鍍膜機有多種不同配置可供選擇，包括基本型、旗艦型、豪華型、尊享型，可以根據(jù)客戶的不同需求進行靈活配置。標配包括2只Φ2英寸永磁靶和一臺500W直流濺射電源，主要用于開發(fā)納米級單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。

該設(shè)備作為一種高效、環(huán)保的鍍膜方法，在多個領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。例如，在材料科學領(lǐng)域中，可用于制備各種功能薄膜材料，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等；在電子工業(yè)領(lǐng)域中，可用于制備電子元器件的薄膜電極、導(dǎo)電膜等；在光學領(lǐng)域中，可用于制備光學薄膜、增透膜、反射膜等；在裝飾領(lǐng)域中，可用于制備各種美觀且耐腐蝕的鍍膜裝飾材料。隨著科技的不斷發(fā)展，小型桌面式磁控濺射儀的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)絹碓綇V泛。