品牌：常州鴻明

型號：HM-Sputtering-120

原理類型：真空濺射鍍膜機

應用領域：所有行業(yè)

極限真空度類型：超高真空

鍍膜室尺寸：120mm

抽氣時間：2min

本公司為國內精密儀器設備領域的專業(yè)廠商，為各大工廠、高校、研究所提供一流的設備，和生產(chǎn)、實驗解決方案。

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黃經(jīng)理

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小型磁控濺射鍍膜儀參數(shù)指標

1.腔室尺寸：Ф120×180mm，304優(yōu)質不銹鋼材質，氬弧焊接，帶玻璃觀察罩；

2.樣品臺尺寸：Ф30 ~75mm，高度：60～120mm可調；

3.真空系統(tǒng)：合資機械泵+分子泵；采用電磁擋板閥及限流閥；（選配）

4.極限真空：8.0×10-5Pa；

5.真空抽速：大氣～8×10-4Pa≤20min；

6.真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa；（選配）

7.磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；

8.濺射電源：500W直流濺射電源和300W自動匹配射頻電源可選；

9.質量流量計：進口20sccm、50sccm質量流量控制器各一套；

10.控制方式：具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能；

11.設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF25法蘭接口；

12.設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；

13.設備集成度高，可以直接放置于實驗桌面上，需要拆卸的部分采用即插即用的方式，接線及安裝調試便捷簡單；

14.設備整機可置于手套箱內，水、電、氣等通過KF40接口接到手套箱外，與手套箱的對接靈活方便；