等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)，不屬于常見的固液氣三態(tài)向氣體施加足夠的能量使其電離為等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、原子、活性基團、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。

　　真空等離子清洗機技術(shù)作為一種新的材料表面改性方法，在等離子清洗機中以其能耗低、污染小、處理時間短、效果明顯而受到人們的關(guān)注。在等離子清洗機的眾多改造方法中，低溫等離子清洗機近年來發(fā)展迅速，等離子清洗機與其他方法相比有很多優(yōu)點。

　　當(dāng)清潔和去污完成時，材料本身的表面性質(zhì)可以得到改善。例如改善表面的潤濕性和改善膜的粘附性，這在許多應(yīng)用中是非常重要的。

　　等離子體清洗要控制的真空度約為100Pa，容易實現(xiàn)。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，清洗過程不需要使用昂貴的有機溶劑，使得整體成本低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝；