在真空室內(nèi)，由射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無(wú)序等離子體，用等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達(dá)到清洗目的。

　　等離子體和固體、液體或氣體一樣，是一種物質(zhì)狀態(tài)，也叫物質(zhì)第四態(tài)。向氣體施加足夠的能量以將其電離成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團(tuán)、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀器就是利用這些活性成分的性質(zhì)對(duì)樣品表面進(jìn)行處理，從而達(dá)到清洗、修飾和灰化光刻膠的目的。

　　等離子清洗可以處理各種材料，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等聚合物)。所以特別適合不耐熱不耐溶劑的材料。還可以選擇性地部分清洗材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)；

　　真空等離子清洗機(jī)表面活化增強(qiáng)附著力的原理包括反應(yīng)室、電源和真空泵組。當(dāng)樣品放入反應(yīng)室后，真空泵開(kāi)始抽空氣到一定的真空度，啟動(dòng)電源產(chǎn)生等離子體，然后向反應(yīng)室內(nèi)通入氣體，使室內(nèi)的等離子體變成反應(yīng)等離子體，與樣品表面反應(yīng)產(chǎn)生揮發(fā)性副產(chǎn)物，由真空泵抽出。等離子體高能粒子與材料表面的物理化學(xué)反應(yīng)，可用于材料表面的活化、刻蝕和去污，提高材料的摩擦系數(shù)、附著力和親水性。