在真空室內(nèi)，由射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序等離子體，用等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達到清洗目的。

　　等離子清洗機就是利用這些活性成分的特性來處理樣品表面，從而達到清洗和鍍膜的目的。

　　真空等離子清洗機技術作為一種新的材料表面改性方法，在等離子清洗機中以其能耗低、污染小、處理時間短、效果明顯而受到人們的關注。在等離子清洗機的眾多改造方法中，低溫等離子清洗機近年來發(fā)展迅速，等離子清洗機與其他方法相比有很多優(yōu)點。

　　等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也稱物質(zhì)的第四種狀態(tài)，不屬于常見的固液氣三態(tài)給氣體施加足夠的能量使其電離成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、原子、活性基團、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。